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                                                  平成８年４月２５日


　国内における６４ＭＤＲＡＭの生産能力拡充


　−茨城県ひたちなか市に64M DRAM製造拠点を新設−

  　日立製作所は、平成１０年頃より急速な立ち上がりが予想される６４Ｍ
ＤＲＡＭ需要に対応するため、ひたちなか市の半導体工場（那珂製造本部）
に総額約１,２００億円の投資を行い、０.３μmＣＭＯＳプロセスの６４Ｍ
ＤＲＡＭ工場を新たに建設することを決定しました。
  これにより、本年４月より着工、平成１０年前半には生産を開始し、平成
１１年末にフル生産を行う計画です。

　ＤＲＡＭは、パーソナルコンピュータやワークステーション等の機器を中
心に使用されていますが、これらの機器は今後も持続的な高成長が見込まれ
ています。また、今後のパーソナルコンピュータの一層の高性能化、高機能
な次世代ＯＳの普及及びマルチメディア市場の立ち上がり等が見込まれ、さ
らに大容量なＤＲＡＭへの需要が高まると予測されます。
　現在、ＤＲＡＭ需要の主力は４ＭＤＲＡＭから１６ＭＤＲＡＭへ急速にシ
フトしています。このように世代交代が絶えず進むメモリビジネスにおいて
は、常に次の世代を視野に置いた早めの生産体制の準備が求められています。　

　当社はこのような状況に対応し、６４ＭＤＲＡＭ対応として、すでに国内
ではひたちなか市半導体工場のＮ-２棟１階に、また海外では、テキサス・
インスツルメンツ社と合弁で米国テキサス州に１６Ｍ/６４ＭＤＲＡＭの製造
会社（TwinStar Semiconductor Inc.）を設立し、現在それぞれラインを構
築中です。
  さらに、アジアにおいては、シンガポールで新日本製鐵株式会社及びシン
ガポール政府との合弁会社、及びマレーシアでＬＧ半導体株式会社との合弁
会社の設立に向けてフィジビリティースタディーを行っています。

　今回の計画では、平成８年から平成１０年にかけて総額約１,２００億円
の設備投資を行い、平成１０年前半より生産開始、平成１１年末で８イン
チウェハー約３万枚/月の能力とする計画です。
　これにより、先に着工しているひたちなか市半導体工場のＮ-２棟１階の
ラインと合わせて、ひたちなか地区を先端メモリの拠点にしていきます。

＜新ラインの概要＞
　　・生　産　品　目       ：６４Ｍ ＤＲＡＭ
　　・プ　ロ　セ　ス       ：０.３ミクロン対応ＣＭＯＳプロセス
　　・総　投　資　額       ：約１,２００億円
　　・クリーンルーム面積   ：９,０００平方メートル
　　・日　　　　　程       ：平成８年４月　　　着工開始
                           平成１０年前半　　生産開始
　                         平成１１年末　　　約３万枚/月（フル生産）
    ・人　　　　　員       ：約６００人（フル生産時）


                                                   −以　上−




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