日立製作所(取締役社長：庄山悦彦)は、本年７月１日付で、有望なベンチャー企業への投
資により新規事業機会の創生を目的に、資金総額約１００億円の「日立コーポレート・ベン
チャー・キャピタルファンド」(略称：「日立CVCファンド」)を設立します。
また、本ファンドを運用する組織として、同日付けで「CVC室」(室長：取締役副社長
松香茂道)を社長直属の組織として新設します。
「日立CVCファンド」は、昨年11月に発表した当社の中期経営計画「i.e.HITACHIプラン」
に沿って、新市場の開拓と新事業の創出を加速させることを目的に設立するものです。
具体的には、次世代インターネット技術やサービス、バイオテクノロジー等の成長分野
において、革新的な技術やコンセプトを有するベンチャー企業を世界中で発掘し、投資し
ていきます。これにより、有望なベンチャー企業の技術と、当社の技術、市場ネットワー
ク及び事業資源を活用し、ベンチャー企業の育成を支援するとともに、当社の事業の拡大・
発展を図ります。また、当社の研究開発成果を社外で事業化する際のベンチャー立ち上げ
のためにも当ファンドを活用する予定です。さらに、本投資活動を通じて新技術や市場動
向の情報をタイムリーに入手し、当社の事業戦略に活用することも期待しています。
当ファンドの総額は当面約１００億円を想定しています。新設される「CVC室」は、事
業育成や財務のエキスパートと、投資対象領域の技術に詳しい研究部門出身者によって構
成され、ファンド運用の責任部署となります。また、ベンチャー企業の創立が盛んな米国
では、投資割合が高くなることが予想されることから、米国法人日立アメリカ株式会社に
「U.S. CVC Center」(センター長：武田健二 日立アメリカ上級副社長/CTO)を新設します。
「U.S. CVC Center」は、北米地域でのベンチャー企業発掘や、投資の手配およびベンチャ
ー企業経営支援を担当します。
当社は、今回の「日立CVCファンド」の設立により、当社の新市場開拓と新事業創生を
加速させ、「i.e.HITACHIプラン」の実現によって、顧客、株主などのステイクホルダー
に対して提供する価値をより一層高めていきます。
以上
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